氮化温度对ZnO薄膜结构特性的影响

doi:10.3969/j.issn.1000-1565.2009.02.011

河北大学学报(自然科学版) ›› 2009, Vol. 29 ›› Issue (2): 150-152.DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2009.02.011

氮化温度对ZnO薄膜结构特性的影响

张丽¹,于威¹,许贺菊²,张锦川¹,傅广生¹

1.河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002； 2.华北煤炭医学院,基础部,河北,唐山,063000

出版日期:2009-03-25 发布日期:2009-03-25
基金资助:
河北省自然科学基金

Influence of Nitridation Temperature on the Microstructure of ZnO Films

ZHANG Li¹,YU Wei¹,XU He-ju²,ZHANG Jin-chuan¹,FU Guang-sheng¹

Online:2009-03-25 Published:2009-03-25

摘要/Abstract

摘要： 采用螺旋波等离子体辅助射频磁控溅射技术,在蓝宝石(001)衬底上制备不同氮化温度的ZnO薄膜.结果表明,在200～600 ℃内, 不同的氮化温度对薄膜的表面形貌和晶格结构有显著影响.

中图分类号:

O484.5

张丽,于威,许贺菊,张锦川,傅广生. 氮化温度对ZnO薄膜结构特性的影响[J]. 河北大学学报(自然科学版), 2009, 29(2): 150-152.

ZHANG Li,YU Wei,XU He-ju,ZHANG Jin-chuan,FU Guang-sheng. Influence of Nitridation Temperature on the Microstructure of ZnO Films[J]. Journal of Hebei University (Natural Science Edition), 2009, 29(2): 150-152.

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氮化温度对ZnO薄膜结构特性的影响

Influence of Nitridation Temperature on the Microstructure of ZnO Films

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