河北大学学报(自然科学版) ›› 2002, Vol. 22 ›› Issue (3): 234-236.DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2002.03.006
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尚勇,赵庆勋,董国义,董丽芳
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摘要： 以[CH4+H2]为反应气体,利用EACVD的方法在Si(100)衬底合成了表面光滑的超薄金刚石薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、显微喇曼光谱、X射线衍射等手段对合成的金刚石薄膜的成分与结构进行了分析.实验得到了生长表面光滑、厚度均匀的超薄金刚石薄膜的最佳条件.
关键词: EACVD, 表面光滑, 金刚石薄膜
中图分类号:
O484
尚勇,赵庆勋,董国义,董丽芳. 表面光滑的金刚石薄膜的合成[J]. 河北大学学报(自然科学版), 2002, 22(3): 234-236.
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