河北大学学报(自然科学版) ›› 2009, Vol. 29 ›› Issue (2): 142-145.DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2009.02.009

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碳涂层对硅基薄膜激光微等离子体光谱强度的影响

冯强,张秋琳,邹昊,崔永亮,怀素芳,郭庆林   

  1. 河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002
  • 出版日期:2009-03-25 发布日期:2009-03-25
  • 基金资助:
    国家重点基础研究发展规划(973计划),河北省自然科学基金

Effects of Carbon Coating on the Spectral Intensity of Silicon-based Thin Film Laser Micro-plasma

FENG Qiang,ZHANG Qiu-lin,ZOU Hao,CUI Yong-liang,HUAI Su-fang,GUO Qing-lin   

  • Online:2009-03-25 Published:2009-03-25

摘要: 为了降低薄膜样品表面对激光的反射率,提高等离子体的辐射强度,改善谱线质量,提出了一种在薄膜表面涂覆碳层的方法,并研究了不同涂层厚度对等离子体谱线强度的影响.实验结果表明,薄膜表面涂覆碳层,可有效减少表面对激光束的反射,提高热耦合效率.当碳涂层厚度15 μm左右时热耦合效率最高,激光等离子体的辐射强度明显增强.

关键词: 激光微区等离子体, 硅基薄膜, 辐射强度

中图分类号: