河北大学学报(自然科学版) ›› 2009, Vol. 29 ›› Issue (5): 474-479.DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2009.05.008

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脉冲激光沉积法制备的Pb(Zr0.4Ti0.6)O3铁电薄膜漏电机理

陈剑辉,刘保亭,孙杰,霍骥川,赵敬伟,王玉强,赵庆勋   

  1. 河北大学物理科学与技术学院,河北保定,071002
  • 出版日期:2009-09-25 发布日期:2009-09-25
  • 基金资助:
    国家自然科学基金,河北省自然科学基金,教育部科学技术研究重点项目,河北省应用基础研究计划重点项目

Pb(Zr0.4Ti0.6)O3 Ferroelectric Thin Films Prepared by PLD Technique and Its Leakage Mechanism

CHEN Jian-hui,LIU Bao-ting,SUN Jie,HUO Ji-chuan,ZHAO Jing-wei,WANG Yu-qiang,ZHAO qin-xun   

  • Online:2009-09-25 Published:2009-09-25

摘要: 利用准分子脉冲激光器在Pt/Ti/SiO2/Si(111)衬底上制备了Pb(Zr0.4Ti0.6)O3(PZT)铁电薄膜.利用掩膜技术,采用磁控溅射法在PZT薄膜上生长Pt上电极,构架了Pt/PZT/Pt铁电电容器异质结.采用X射线衍射和电容耦合测试技术分别表征了PZT铁电薄膜的微结构和电学性能.研究发现:在5 V的测试电压下,在560℃较低的沉积温度下生长的PZT薄膜电容器的剩余极化强度为187 C/m2、矫顽电压为2.0 V、漏电流密度为2.5×10-5A/cm2.应用数学拟合的方法研究了Pt/PZT/Pt的漏电机理,发现当电压小于1.22 V时,Pt/PZT/Pt电容器对应欧姆导电机理;当电压大于2.30 V时,对应非线性的界面肖特基传导(Schottky emission)机理.

关键词: Pb(Zr0.4Ti0.6)O3, 漏电机理, 铁电薄膜, 脉冲激光沉积

中图分类号: