等离子体表面处理装置

doi:10.3969/j.issn.1000-1565.2016.04.005

河北大学学报(自然科学版) ›› 2016, Vol. 36 ›› Issue (4): 358-361.DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2016.04.005

等离子体表面处理装置

张浩,董丽芳,王浩,高星

收稿日期:2016-01-05 出版日期:2016-07-25 发布日期:2016-07-25
通讯作者: 董丽芳(1963—),女,河北保定人,河北大学教授,博士生导师,主要从事光学诊断与等离子体物理方面的研究.E-mail:donglf @hbu.edu.cn
作者简介:张浩(1989—),男,河北保定人,河北大学在读硕士研究生. E-mail:m15130248376@163.com
基金资助:
国家自然科学基金资助项目(11175054);河北省科技厅重点项目(11967135D);河北省教育厅重点项目(ZD2010140);河北大学研究生创新资助项目

Device for surface treatment by plasma

ZHANG Hao,DONG Lifang,WANG Hao,GAO Xing

College of Physics Science and Technology, Hebei University, Baoding 071002, China

Received:2016-01-05 Online:2016-07-25 Published:2016-07-25

摘要/Abstract

摘要： 设计了一种利用介质阻挡放电产生等离子体对材料表面进行处理的新型表面处理装置.此装置采用交流高压驱动,在每个电压半周期内放电次数达到4次甚至更多次,能够产生大量的等离子体.此装置产生的等离子体距离待处理材料近,对等离子体具有较高的利用率,在工业应用方面具有较高的应用前景.

关键词: 介质阻挡放电, 等离子体, 表面处理

Abstract: A new-type of device that use dielectric barrier diasharge to generate plasma for surface treatment is designed.It is driven by an ac alternating(urrent)power supply,and a large number of plasma is produced due to four or even more times diasharge per half cycle of the driven voltage.In addition,the device generats plasma at the place that is close to the materials which need to be processed and has a high use ratio of plasma,thus showing great promise in industrial application.

Key words: dielectric barrier discharge, plasma, surface treatment

中图分类号:

O461

张浩,董丽芳,王浩,高星. 等离子体表面处理装置[J]. 河北大学学报(自然科学版), 2016, 36(4): 358-361.

ZHANG Hao,DONG Lifang,WANG Hao,GAO Xing. Device for surface treatment by plasma[J]. Journal of Hebei University (Natural Science Edition), 2016, 36(4): 358-361.

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