碳化硅薄膜的光学特性研究

doi:10.3969/j.issn.1000-1565.2007.01.009

河北大学学报(自然科学版) ›› 2007, Vol. 27 ›› Issue (1): 24-27.DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2007.01.009

碳化硅薄膜的光学特性研究

于威¹,吕雪芹¹,宋维才²,路万兵¹,傅广生¹

1.河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002； 2.唐山师范学院,物理系,河北,唐山,063000

出版日期:2007-01-25 发布日期:2007-01-25
基金资助:
河北省自然科学基金

Optical Properties of Silicon Carbide Film

YU Wei¹,L(U) Xue-qin¹,SONG Wei-cai²,LU Wan-bing¹,FU Guang-sheng¹

Online:2007-01-25 Published:2007-01-25

摘要/Abstract

摘要： 采用螺旋波等离子体增强化学气相沉积(HW-PECVD)技术制备了纳米晶碳化硅(nc-SiC)薄膜,利用傅立叶红外吸收谱(FTIR)、X射线衍射谱(XRD)、紫外-可见透射光谱(UV-Vis)和光致发光谱(PL)对薄膜的结构、光学带隙、发光特性等进行了测量和分析.结果表明,所沉积薄膜主要以Si-C键合结构存在,薄膜中包含有立方结构的3C-SiC晶粒,光学带隙2.59 eV,室温下薄膜表现出强的可见蓝色光致发光,发光峰位随氙灯激发波长的增加呈现红移现象,并将此发光归因于量子限制效应作用的结果.

关键词: SiC薄膜, 薄膜结构, 光学带隙, 光致发光

中图分类号:

O484.4+1

于威,吕雪芹,宋维才,路万兵,傅广生. 碳化硅薄膜的光学特性研究[J]. 河北大学学报(自然科学版), 2007, 27(1): 24-27.

YU Wei,L(U) Xue-qin,SONG Wei-cai,LU Wan-bing,FU Guang-sheng. Optical Properties of Silicon Carbide Film[J]. Journal of Hebei University (Natural Science Edition), 2007, 27(1): 24-27.

参考文献

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Optical Properties of Silicon Carbide Film

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