EACVD中基片表面电子及氢原子能量分布

doi:10.3969/j.issn.1000-1565.2001.01.008

河北大学学报(自然科学版) ›› 2001, Vol. 21 ›› Issue (1): 34-37.DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2001.01.008

EACVD中基片表面电子及氢原子能量分布

董丽芳,张玉红,陈俊英

河北大学物理科学与技术学院

出版日期:2001-02-25 发布日期:2001-02-25

Energy Distribution of Electrons and H Atoms on the Surface of the Substrate during Electron Assisted Chemical Vapor Deposition of Diamond

DONG Li-fang,ZHANG Yu-hong,CHEN Jun-ying

Online:2001-02-25 Published:2001-02-25

摘要/Abstract

摘要： 采用Monte Carlo方法，模拟了EACVD淀积金刚石薄膜中氢分解过程 .建立了电子碰撞使氢分解的模型，给出了在基片表面电子及氢原子的能量分布.结果对EACVD淀积金刚石薄膜的研究有重要意义.

关键词: 蒙特卡罗模拟, 化学气相沉积, 氢分解

Abstract: Hydrogen dissociation in the process of electron assisted chemicalvap or deposition（EACVD）of diamond thin films is simulated by using Monte Carlomethod. The model of hydrogen dissociation through electron impacting is suggested . The energy distribution of electrons and H atoms on the surface of the substra te are obtained. The results are of great importance to the study of diamond thi n films deposited by EACVD.

中图分类号:

董丽芳,张玉红,陈俊英. EACVD中基片表面电子及氢原子能量分布[J]. 河北大学学报(自然科学版), 2001, 21(1): 34-37.

DONG Li-fang,ZHANG Yu-hong,CHEN Jun-ying. Energy Distribution of Electrons and H Atoms on the Surface of the Substrate during Electron Assisted Chemical Vapor Deposition of Diamond[J]. Journal of Hebei University (Natural Science Edition), 2001, 21(1): 34-37.

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EACVD中基片表面电子及氢原子能量分布

Energy Distribution of Electrons and H Atoms on the Surface of the Substrate during Electron Assisted Chemical Vapor Deposition of Diamond

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