河北大学学报(自然科学版) ›› 2014, Vol. 34 ›› Issue (2): 137-142.DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2014.02.005

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散射电场对激光烧蚀制备纳米Si晶粒分布和尺寸的影响

王英龙,宗煜,褚立志,邓泽超,丁学成   

  1. 河北大学物理科学与技术学院,河北保定,071002
  • 出版日期:2014-03-25 发布日期:2014-03-25
  • 基金资助:
    973计划前期研究专项资助项目,河北省自然科学基金资助项目

Influence of scattering electric field on the distribution and average size of Si nanoparticles prepared by laser ablation

WANG Yinglong,ZONG Yu,CHU Lizhi,DENG Zechao,DING Xuecheng   

  • Online:2014-03-25 Published:2014-03-25

摘要: 在10 Pa的氩气环境下采用了脉冲激光烧蚀技术(PLA),通过引入散射电场沉积制备了纳米Si晶粒薄膜.X线衍射谱(XRD)和Raman谱测量均证实了在薄膜中已经形成了纳米Si晶粒;利用扫描电子显微镜(SEM)对所制备的薄膜进行了形貌表征.结果表明,纳米Si晶粒的分布以及其平均尺寸均相对于轴向呈对称分布,加入散射电场后纳米Si晶粒的分布范围增大,其平均尺寸最大值所对应与靶的轴向夹角变大.利用MATLAB对烧蚀颗粒在散射电场的运动过程进行数值模拟,得到与实验结果一致的规律.

关键词: 纳米Si晶粒, 散射电场, 激光烧蚀, 平均尺寸

Key words: Si nanoparticles, scattering electric field, pulsed ablation, average size

中图分类号: