河北大学学报(自然科学版) ›› 2005, Vol. 25 ›› Issue (1): 29-32.DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2005.01.008

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氩环境气压对激光烧蚀沉积纳米硅薄膜形貌的影响

闫常瑜,周阳,褚立志,武德起,王晓菲,王英龙   

  1. 河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002
  • 出版日期:2005-01-25 发布日期:2005-01-25
  • 基金资助:
    河北省自然科学基金

Influence of Ambient Gas Pressure on Morphology of nc-Si Film Deposited by Pulsed Laser Ablation in Argon

YAN Chang-yu,ZHOU Yang,CHU Li-zhi,WU De-qi,WANG Xiao-fei,WANG Ying-long   

  • Online:2005-01-25 Published:2005-01-25

摘要: 采用脉冲激光烧蚀技术在氩气环境下制备了纳米硅薄膜,研究了环境气体压强对纳米硅薄膜表面形貌的影响. 结果表明,当环境气压小于50 Pa时,薄膜表现为常规的量子点镶嵌结构;当环境气压大于50 Pa时,薄膜中出现类网状的絮结构,继续增大氩气压,絮结构逐渐增大,且其隙度增大. 指出该现象与在激光烧蚀过程中纳米硅团簇的形成过程有关.

关键词: 脉冲激光烧蚀, 纳米硅, 形貌

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