河北大学学报(自然科学版) ›› 2009, Vol. 29 ›› Issue (4): 372-375.DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2009.04.010

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激光烧蚀制备纳米Si晶粒的激光能量密度阈值

褚立志,邓泽超,丁学成,卢丽芳,王英龙   

  1. 河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002
  • 出版日期:2009-07-25 发布日期:2009-07-25
  • 基金资助:
    国家自然科学基金,河北省自然科学基金,河北省教育厅科研基金

Energy Density Threshold of Nanocrystalline Silicon Film Prepared by Pulsed Laser Ablation

CHU Li-zhi,DENG Ze-chao,DING Xue-cheng,LU Li-fang,WANG Ying-long   

  • Online:2009-07-25 Published:2009-07-25

摘要: 在10 Pa的Ar环境气氛下,采用脉冲激光烧蚀方法在玻璃或单晶Si(111)衬底上制备了纳米Si晶薄膜. 为了确定能够形成纳米Si晶粒的激光能量密度阈值,在0.40~1.05 J/cm2内实验研究了激光能量密度对纳米Si晶粒形成的影响. 扫描电子显微镜(SEM)测量证实,随着激光能量密度的减小,所形成的纳米Si晶粒数目逐渐减少. 当激光能量密度低于0.43 J/cm2时,衬底表面不再有纳米Si晶粒形成. 从激光烧蚀动力学角度出发,对实验结果进行了定性分析.

关键词: 激光烧蚀, 纳米Si薄膜, 激光能量密度阈值

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